WET WASHING METHOD FOR REMOVING POLYMER CONTAINING METALS

본 발명은 아세토히드록삼산(Acetrohydroxamic Acid, HONHC(O)CH) 및 유기아민(Organic Amine)을 같은 당량으로 하는 세정액(Cleaning Agent)으로 사용하고, 용매(Solvent)로서 디메틸 술폭사이드(Dimetyl Sulfoxide) 또는 디메틸포름아미드(Dimethyl Formamide)를 사용하여 폴리머를 습식제거하는 것을 특징으로 하는 폴리머 제거 방법에 관한 것으로, 폴리머내의 산화상태에 있는 금속과 반응성(Reactivity)과 선택성(Selecativity)이 좋기 때문에 산화수...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LEE, BYUNG-SUK, KIM, DAE-HEE, JUNG, EUI-SAM
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 아세토히드록삼산(Acetrohydroxamic Acid, HONHC(O)CH) 및 유기아민(Organic Amine)을 같은 당량으로 하는 세정액(Cleaning Agent)으로 사용하고, 용매(Solvent)로서 디메틸 술폭사이드(Dimetyl Sulfoxide) 또는 디메틸포름아미드(Dimethyl Formamide)를 사용하여 폴리머를 습식제거하는 것을 특징으로 하는 폴리머 제거 방법에 관한 것으로, 폴리머내의 산화상태에 있는 금속과 반응성(Reactivity)과 선택성(Selecativity)이 좋기 때문에 산화수가 제로(0)인 금속을 보호하면서 폴리머를 제거하여 소자의 특성을 향상시키는 효과가 있다.