ELECTRODE FORMATION OF SIC

PURPOSE:To obtain an electrode with excellent ohmic chracteristics by a method wherein after a silicon layer and an aluminum layer are formed on a P type SiC, the heat treatment is performed. CONSTITUTION:An aluminum layer and a silicon layer are successively formed on a P type SiC in such a manner...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: SANO JIYUNICHI
Format: Patent
Sprache:eng
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