PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR DIAZOTYPE COPYING

PURPOSE:To prepare diazotype photosensitive materials suitable for manufacture of masks for integrated circuits and superior in storage stability.

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Hauptverfasser: KATOU HIROHISA, TOMII HITOSHI, IKARI KUNIHIRO
Format: Patent
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:PURPOSE:To prepare diazotype photosensitive materials suitable for manufacture of masks for integrated circuits and superior in storage stability.