PATTERN FORMING METHOD

PURPOSE:To easily form a coating film excellen in precision and to use various materials excellent in heat resistance and solvent resistance by irradiating a material layer with excimer laser light to form a pattern from a transfer body. CONSTITUTION:Silicone resin 2 for peeling is applied on a poly...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: ISOMI AKIRA, HAGINO MASATO
Format: Patent
Sprache:eng
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