SEMICONDUCTOR DEVICE

PURPOSE:To prevent the stress and electromigration of an aluminum pattern by forming two layer structure, in which an Al-Si layer is shaped onto an Al-Si-Cu layer, as electrode structure. CONSTITUTION:Electrode structure in which an aluminum alloy layer 2 containing copper and an aluminum alloy laye...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: UEDA YASUSHI, ASAHI KUNIHIKO
Format: Patent
Sprache:eng
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