WAFER HOLDER

To provide a wafer holder, having a top plate vacuum-sucked to a base plate, which allows a temperature sensor to be disposed without impeding the vacuum suction.SOLUTION: A wafer holder comprises: a top plate having an upper surface on which a wafer is placed; and a base plate disposed under the to...

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Hauptverfasser: ITAKURA KATSUHIRO, KITABAYASHI KEIJI, FUJII AKINARI, SAKITA SHIGENOBU, KIMURA KOICHI
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a wafer holder, having a top plate vacuum-sucked to a base plate, which allows a temperature sensor to be disposed without impeding the vacuum suction.SOLUTION: A wafer holder comprises: a top plate having an upper surface on which a wafer is placed; and a base plate disposed under the top plate. The top plate has: a temperature sensor which has a detection part and a lead wire extending from the detection part; a wiring path in which the temperature sensor is housed; and an exhaust path for vacuum-sucking the top plate onto the base plate. The wiring path has: a first end at which the detection part is disposed; and a second end from which the lead wire is led out. The second end includes an opening provided on a peripheral surface of the top plate.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】ベースプレートに真空吸着されるトッププレートを備えるウエハ保持台において、上記真空吸着を阻害することなく温度センサを配置することができるウエハ保持台を提供する。【解決手段】ウエハ保持台は、ウエハが配置される上面を有するトッププレートと、前記トッププレートの下部に配置されたベースプレートと、を備える。前記トッププレートは、検知部および前記検知部から延びるリード線を有する温度センサと、前記温度センサが収納された配線経路と、前記ベースプレートの上部に前記トッププレートを真空吸着するための排気経路とを有する。前記配線経路は、前記検知部が配置された第一端部と、前記リード線が引き出された第二端部と、を有する。前記第二端部は、前記トッププレートの周面に設けられた開口を含む。【選択図】図1