MEASURING APPARATUS, METHOD FOR OPERATING MASK-METROLOGY MEASURING APPARATUS, AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT

To provide a method for operating a mask-metrology measuring apparatus.SOLUTION: An image of a section of a photomask is recorded with a first image sensor (20) and an aerial image is generated by subjecting an image raw data obtained by the image sensor (20) to a clear normalization (45) and is subjected to a non-linearity adaptation comprising the following steps. In step a., the aerial image is mathematically combined with a clear image (47). In step b., a linearity correction is applied to the image data generated in step a. so as to correct a linearity error of the first image sensor (20). In step c., a non-linearity adaptation (P-1lin2) is applied to the linearity-corrected image data obtained in step b. so as to imprint a linearity signature of a second image sensor not arranged in the beam path of the measuring apparatus on the image data. In step d., a clear normalization is applied to the linearity-adapted image data generated in step c..SELECTED DRAWING: Figure 7 【課題】マスク計測測定装置を動作させるための方法。【解決手段】フォトマスクのセクションの像は第１の像センサ（２０）によって記録され、像センサ（２０）によって取得された像未処理データがクリア正規化（４５）を受けることによって生成され、以下のステップを含む非直線性適応を受ける。ステップａ．空間像はクリア像と数学的に結合される（４７）。ステップｂ．直線性補正は、第１の像センサ（２０）の直線性誤差を補正するために、ステップａで生成された像データに適用され、ステップｃ．非直線性適応（Ｐ-1lin2）は、測定装置のビーム経路内に配置されていない第２の像センサの直線性シグネチャを像データにインプリントするために、ステップｂで取得された直線性補正済み像データに適用され、ステップｄ．にて、クリア正規化は、ステップｃで生成された直線性適応済み像データに適用される。【選択図】図７