CERAMIC SHOWER HEAD INCLUDING CONDUCTIVE ELECTRODE

To provide a ceramic shower head including a conductive electrode.SOLUTION: A shower head of a semiconductor processing chamber includes a dielectric plate 505 characterized by having a first surface 507 and a second surface 509 on the opposite side of the first surface. In the dielectric plate, a plurality of open holes 515 passing the dielectric plate are defined, a first annular channel 525 is defined on a first surface of the dielectric plate, and the first annular channel extends along the periphery of the open holes. In the dielectric plate, a second annular channel 530 is defined on the first surface of the dielectric plate. The second annular channel is formed on the outside of the first annular channel in a radial direction. The shower head also includes a conductive material 510 that is embedded in the dielectric plate and extends along the periphery of the open holes without being exposed by the open holes. The conductive material is exposed at the second annular channel.SELECTED DRAWING: Figure 5B 【課題】導電性電極を備えたセラミックシャワーヘッドを提供する。【解決手段】半導体処理チャンバのシャワーヘッドは、第１の面５０７と、第１の面の反対側の第２の面５０９とによって特徴付けられる誘電体プレート５０５を含む。誘電体プレートは、誘電体プレートを通る複数の開孔５１５を画定し、誘電体プレートの第１の面に第１の環状チャネル５２５を画定し、第１の環状チャネルは、複数の開孔の周りに延在する。誘電体プレートは、誘電体プレートの第１の面に第２の環状チャネル５３０を画定する。第２の環状チャネルは、第１の環状チャネルから半径方向外側に形成される。シャワーヘッドはまた、誘電体プレート内に埋め込まれ、開孔によって露出されずに複数の開孔の周りに延在する導電性材料５１０も含む。導電性材料は、第２の環状チャネルで露出される。【選択図】図５Ｂ