INSPECTION APPARATUS
To provide a charged-particle assessment tool comprising multiple beam columns.SOLUTION: Each beam column comprises: a charged-particle beam source (201) configured to emit charged particles; multiple condenser lenses (231) configured to form charged particles (211, 212, 213) emitted from the charge...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To provide a charged-particle assessment tool comprising multiple beam columns.SOLUTION: Each beam column comprises: a charged-particle beam source (201) configured to emit charged particles; multiple condenser lenses (231) configured to form charged particles (211, 212, 213) emitted from the charged-particle beam source into multiple charged-particle beams, the condenser lenses configured to focus the multiple charged particle beams to respective intermediate focuses (233); multiple objective lenses (234) arranged downstream of the intermediate focuses, each objective lens configured to project one of the multiple charged-particle beams onto a sample; and aberration correctors (235) configured to reduce one or more aberrations in the multiple charged particle beams. The beam columns are arranged adjacently to one another to project the charged particle beams onto adjacent regions of the sample.SELECTED DRAWING: Figure 3
【課題】複数のビームコラムを含む荷電粒子評価ツールが提供される。【解決手段】各ビームコラムは、荷電粒子を放出するように構成された荷電粒子ビーム源(201)と、荷電粒子ビーム源から放出された荷電粒子(211、212、213)を複数の荷電粒子ビームへと形成するように構成された複数の集光レンズ(231)であって、複数の荷電粒子ビームをそれぞれの中間焦点(233)に集束させるように構成された複数の集光レンズと、中間焦点の下流に配置された複数の対物レンズ(234)であって、各対物レンズは複数の荷電粒子ビームのうちの1つをサンプル上に投影するように構成される、複数の対物レンズと、複数の荷電粒子ビーム中の1つ又は複数の収差を低減するように構成された収差補正器(235)と、を含む。ビームコラムは、荷電粒子ビームをサンプルの隣接領域に投影するように互いに隣接して配置される。【選択図】図3 |
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