COMPOUND AND ACID DIFFUSION CONTROL AGENT

To provide a compound and an acid diffusion control agent contained in a resist composition having excellent fine resolution.SOLUTION: A compound represented by general formula (d0) is adopted. In formula (d0), R01, R02, R03 and R04 are each independently a hydrogen atom, a hydroxy group, a halogen...

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1. Verfasser: NGUYEN KHANHTIN
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a compound and an acid diffusion control agent contained in a resist composition having excellent fine resolution.SOLUTION: A compound represented by general formula (d0) is adopted. In formula (d0), R01, R02, R03 and R04 are each independently a hydrogen atom, a hydroxy group, a halogen atom or an alkyl group. Or R01 and R02, R02 and R03, or R03 and R04 may be bonded to each other so as to form an aromatic ring. R05 is a hydrogen atom or an alkyl group. Y is a group which forms an alicyclic group together with *C (carbon atom), However, at least one of carbon atoms forming the alicyclic group is substituted by an ether bond, a thioether bond, a carbonyl group, a sulfinyl group or a sulfonyl group. m is an integer of 1 or more, and Mm+ represents an m-valent sulfonium cation or an m-valent iodonium cation.SELECTED DRAWING: None 【課題】微細解像性が良好なレジスト組成物に含有される化合物及び酸拡散制御剤の提供。【解決手段】本発明は、一般式(d0)で表される化合物を採用する。式(d0)中、R01、R02、R03及びR04は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子又はアルキル基である。あるいは、R01とR02、R02とR03、又はR03とR04とが相互に結合して、芳香環を形成している。R05は、水素原子又はアルキル基である。Yは、*C(炭素原子)と共に脂環式基を形成する基である。但し、前記脂環式基を形成する炭素原子のうちの少なくとも1つは、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル基、スルフィニル基又はスルホニル基で置換されている。mは1以上の整数であって、Mm+はm価のスルホニウムカチオン又はm価のヨードニウムカチオンを表す。TIFF2024105314000086.tif42170【選択図】なし