IMAGE INSPECTION DEVICE AND IMAGE INSPECTION METHOD

PURPOSE: To provide an image inspection device and an image inspection method that generate an original restored image from an image acquired from an SEM device or the like or its geometric features on the basis of ideal geometric features generated from design data, etc., and measure patterns having complex shapes with high accuracy, quickly, and with minimal damage by measuring the length of the restored image.CONSTITUTION: An image inspection device includes means that deep-learns ideal geometric features by pairing an image generated from design data of a pattern to be formed on a sample with an SEM image generated by detecting emitted secondary electrons or reflected backscattered electrons while emitting a finely focused electron beam onto the pattern formed on the sample on the basis of the design data, and restoration means that generates an image having only the ideal geometric features obtained by deep learning, and on the basis of the ideal geometric features, an image is generated by extracting only the ideal geometric features from the SEM image.SELECTED DRAWING: Figure 1 【目的】本発明は、画像検査装置および画像検査方法に関し、設計データ等から生成した理想的な幾何学的特徴量をもとに、ＳＥＭ装置等から取得した画像あるいはその幾何学的特徴量から元の復元画像を生成し、復元画像の測長を行い、複雑な形状を持つパターンを高精度、迅速、かつ損傷少なくした測定することを目的とする。【構成】サンプルに形成するパターンの設計データから生成した画像と、設計データをもとにサンプル上に形成されたパターンの上に、電子線ビームを細く絞って照射しつつ走査し、放出された２次電子あるいは反射された反射電子を検出して生成したＳＥＭ画像とを対にして理想的な幾何学的特徴を深層学習する手段と、深層学習によって得られた理想的な幾何学的特徴量のみ有する画像を生成する復元手段とを備え、理想的な幾何学的特徴量をもとに、ＳＥＭ画像から理想的な幾何学的特徴量のみ抽出して画像を生成するように構成する。【選択図】 図１