HIGHLY EFFICIENT SOLAR CELL STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD
To provide a method for manufacturing a solar cell that provides high operating efficiency and can be produced cost-effectively.SOLUTION: A method for manufacturing a solar cell includes the steps of depositing a passivated silicon oxide layer on a crystalline silicon substrate, depositing an amorph...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | To provide a method for manufacturing a solar cell that provides high operating efficiency and can be produced cost-effectively.SOLUTION: A method for manufacturing a solar cell includes the steps of depositing a passivated silicon oxide layer on a crystalline silicon substrate, depositing an amorphous silicon layer containing a dopant on the silicon oxide layer, heat-treating the amorphous silicon layer at a temperature of 500°C or higher to activate the dopant and initiate crystallization of the amorphous silicon layer into a doped polysilicon layer, and forming a metal electrode in contact with the doped polysilicon layer.SELECTED DRAWING: Figure 6
【課題】高い作動効率を実現し、高い費用効率で製造することの可能な太陽電池を製造する方法を提供する。【解決手段】太陽電池を製造する方法である。前記方法は、結晶シリコン基板上に不活性化シリコン酸化物層を蒸着させるステップと、前記シリコン酸化物層上にアモルファスシリコン層を蒸着させるステップであって、前記アモルファスシリコン層がドーパントを含んでいるステップと、前記アモルファスシリコン層を500℃以上の温度で熱処理して、前記ドーパントを活性化し、前記アモルファスシリコン層のドープされたポリシリコン層への結晶化を開始させるステップと、前記ドープされたポリシリコン層と接触する金属電極を形成するステップと、を含む。【選択図】図6 |
---|