LASER PROCESSING METHOD, REDUCTION PROJECTION OPTICAL SYSTEM, MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE AND LASER PROCESSING DEVICE

To provide: a scanning-type reduction projection optical system that can scan a minute irradiated area with the uniform and constant energy distribution with high accuracy and at high speed over a wide area while compensating for insufficient accuracy of a scanner without using an expensive fθ lens with a large aperture or a telecentric reduction projection lens; and a lift device for mounting and re-transferring having the same system or the like at a low cost.SOLUTION: A microelement on a donor substrate is lifted onto an opposite receptor substrate with high positional accuracy by a scanning-type reduction projection optical system which images transverse multimode pulsed laser beam on the donor substrate in a minute area size via a lens array type zoom homogenizer, an array mask 10, a scanning mirror 4, a photomask 6 and a telecentric projection lens 8.SELECTED DRAWING: Figure 6B 【課題】大口径の高額なｆθレンズやテレセントリック縮小投影レンズを用いることなく、スキャナーの精度不足を補いながら、均一で変動のないエネルギー分布を持つ微小な照射エリアを、広範囲で高精度且つ高速でスキャンできる走査型縮小投影光学系と、これを搭載した実装用若しくは再転写用のリフト装置等を低コストで提供する。【解決手段】横マルチモードのパルスレーザ光を、レンズアレイ型のズームホモジナイザー、アレイマスク１０、スキャニングミラー４、フォトマスク６、テレセントリック投影レンズ８を介して、ドナー基板上に微小エリアのサイズにて結像させる走査型縮小投影光学系により、ドナー基板上の微小素子を対向するレセプター基板上に高い位置精度にてリフトする。【選択図】図６Ｂ