ELECTROCHEMICAL CELL STACK
To provide an electrochemical cell stack capable of adjusting a flow rate distribution of a reaction fluid in a cell chamber.SOLUTION: An electrochemical cell stack 1 comprises a single cell, a first passage 3, a second passage, and a separator 5, and has a stacking structure in which the single cel...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | To provide an electrochemical cell stack capable of adjusting a flow rate distribution of a reaction fluid in a cell chamber.SOLUTION: An electrochemical cell stack 1 comprises a single cell, a first passage 3, a second passage, and a separator 5, and has a stacking structure in which the single cell held between the first passage 3 and the second passage and the separator 5 are alternately stacked. The first passage 3 includes a distribution chamber 32 which has an inflow port 31 through which a reaction fluid flows in, a cell chamber 33 formed along a first electrode of the single cell, and an outflow port 35 through which the reaction fluid flows out, and is formed between the inflow port 31 and the cell chamber 33. The distribution chamber 32 is longer than the inflow port 31 in a width direction Y. An upstream partition wall 51 separating the distribution chamber 32 and the cell chamber 33 is provided between the distribution chamber 32 and the cell chamber 33. In the upstream partition wall 51, an upstream slit 52 is formed.SELECTED DRAWING: Figure 2
【課題】セル室における反応流体の流量分布を調整することができる、電気化学セルスタックを提供すること。【解決手段】単セルと、第1流路3と、第2流路と、セパレータ5とを有し、第1流路3と第2流路とに挟まれた単セルと、セパレータ5とが交互に積層された積層構造を有する、電気化学セルスタック1。第1流路3は、反応流体が流入する流入口31と、単セルの第1電極に沿って形成されたセル室33と、反応流体が流出する流出口35とを有すると共に、流入口31とセル室33との間に形成された分配室32を有する。分配室32は、幅方向Yにおいて、流入口31よりも長い。分配室32とセル室33との間には、分配室32とセル室33とを仕切る上流仕切壁51が設けてある。上流仕切壁51には、上流スリット52が形成されている。【選択図】図2 |
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