IMPRINT METHOD, IMPRINT DEVICE, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

To provide a technique advantageous for maintaining uniformity of residual film thickness by quickly filling a concave part of a pattern with an imprint material.SOLUTION: An imprint device hardens an imprint material to form a pattern on a shot region by radiating light to the imprint material via a die under a condition that the imprint material on the shot region of a substrate is in contact with the die. The imprint device has a radiation part for at least partially radiating light in a pattern region of the die, and a control part. The control part determines a partial region of the pattern region including a boundary of a first region including one or more concave parts having depth exceeding a predetermined value and a second region next to the first region, not including the concave part having depth exceeding the predetermined value based on uneven information of the pattern region, so as to make an amount for radiating light to the partial region by the radiation part larger than that in a region other than the partial region.SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】パターンの凹部へのインプリント材の充填を速めて残膜厚の均一性を維持するために有利な技術を提供する。【解決手段】インプリント装置は、基板のショット領域の上のインプリント材と型とを接触させた状態で前記型を介して前記インプリント材を光照射することによって前記インプリント材を硬化させて前記ショット領域の上にパターンを形成する。該インプリント装置は、前記型のパターン領域に少なくとも部分的に光を照射する照射部と、制御部と、を有し、前記制御部は、前記パターン領域の凹凸情報に基づいて、所定値を超える深さを持つ凹部を１つ以上含む第１領域と、前記第１領域と隣接し、前記所定値を超える深さを持つ凹部を含まない第２領域との境界を含む前記パターン領域の部分領域を決定し、前記照射部による前記部分領域への光照射量を、該部分領域以外の領域よりも大きくする。【選択図】 図３