METHODS AND SYSTEMS FOR REDUCING SYSTEM ERROR IN ELECTRON BEAM MEASUREMENT
To provide methods and systems for correcting a system error in electron beam measurement.SOLUTION: Embodiments may include methods and systems for correcting a response function of an electron beam tool. The correcting may include: modulating an electron beam parameter having a frequency; emitting...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To provide methods and systems for correcting a system error in electron beam measurement.SOLUTION: Embodiments may include methods and systems for correcting a response function of an electron beam tool. The correcting may include: modulating an electron beam parameter having a frequency; emitting an electron beam based on the electron beam parameter towards a specimen, thereby scattering electrons, wherein the electron beam is described by a source wave function having a source phase and a landing angle; detecting a portion of the scattered electrons at an electron detector, thereby yielding electron data including an electron wave function having an electron phase and an electron landing angle; determining, using a processor, a phase delay between the source phase and the electron phase, thereby yielding a latency; and correcting, using the processor, the response function of the electron beam tool using the latency and a difference between the source wave function and the electron wave function.SELECTED DRAWING: Figure 3
【課題】電子ビーム計測における系統誤差を低減する方法及びシステムを提供する。【解決手段】電子ビームツールの応答関数を補正する方法、システムが含まれうる。その補正においては、周波数を有する電子ビームパラメータを変調し、源泉位相を有する源泉波動関数とランディング角とにより記述される電子ビームをその電子ビームパラメータに基づき試料の方に放射してそこで電子を散乱させ、それら散乱電子のうち一部分を電子検出器にて検出することで、電子データであり電子位相を有する電子波動関数と電子ランディング角とを含むものを生成し、プロセッサを用い源泉位相・電子位相間位相遅延を判別し、それによってラテンシを求め、そして同プロセッサを用い、またラテンシ及び源泉波動関数・電子波動関数間差異を用い、その電子ビームツールの応答関数を補正することができる。【選択図】図3 |
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