METHOD OF MANUFACTURING MEMBRANE ASSEMBLY

To provide a novel method for manufacturing a membrane assembly.SOLUTION: A method for manufacturing a membrane assembly for EUV lithography includes: providing a stack including at least one membrane layer and a first sacrificial layer, the membrane layer supported by a planar substrate having an inner region and a border region around the inner region, and the first sacrificial layer located between the planar substrate and the membrane layer; and selectively removing the inner region of the planar substrate, the selectively removing the inner region of the planar substrate including using an etchant which has similar etch rates for the membrane layer and its oxide and a substantially different etch rate for the first sacrificial layer. Therefore, the membrane assembly includes: a membrane formed from the at least one membrane layer; a border holding the membrane, the border including the border region of the planar substrate; and the first sacrificial layer situated between the border and the membrane layer.SELECTED DRAWING: Figure 9 【課題】新規な薄膜アセンブリを製造する方法を提供する。【解決手段】ＥＵＶリソグラフィ用の薄膜アセンブリを製造する方法であって、内側領域及び内側領域の周囲の縁領域を備える平面基板によって支持された少なくとも１つの薄膜層と、平面基板と薄膜層との間の第１の犠牲層と、を備えるスタックを提供するステップと、平面基板の内側領域を選択的に除去するステップであって、薄膜層及びその酸化物には同様のエッチング速度を有し第１の犠牲層には実質的に異なるエッチング速度を有するエッチング液を用いることを備える、平面基板の内側領域を選択的に除去するステップと、を備えており、したがって、薄膜アセンブリは、少なくとも１つの薄膜層から形成された薄膜と、薄膜を保持する縁であって平面基板の縁領域を備える縁と、縁と薄膜層との間に位置する第１の犠牲層と、を備える、方法。【選択図】 図９