OPTICAL STACK DEPOSITION AND ON-BOARD METROLOGY

To provide a method and apparatus for forming an optical stack having uniform and accurate layers.SOLUTION: A processing tool 100 comprises, within an enclosed environment, a first transfer chamber 106, an on-board metrology unit 110, and a second transfer chamber 116. A first plurality of processing chambers is coupled to the first transfer chamber or the second transfer chamber. The on-board metrology unit is disposed between the first transfer chamber and the second transfer chamber. The on-board metrology unit is configured to measure one or more optical properties of one or more layers of the optical stack, determine any errors in the one or more layers based on the measured one or more optical properties, and provide real-time optical response feedback to the processing tool. The processing tool is configured to compensate for errors detected in the measured layers, in subsequently deposited layers.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】均一かつ精密な層を有する光学積層体を形成するための方法及び装置を提供する。【解決手段】処理ツール１００は、閉鎖環境内に、第１移送チャンバ１０６と、搭載型計測ユニット１１０と、第２移送チャンバ１１６とを備える。第１の複数の処理チャンバが、第１移送チャンバ又は第２移送チャンバに連結される。搭載型計測ユニットは、第１移送チャンバと第２移送チャンバとの間に配置される。搭載型計測ユニットが、光学積層体の一又は複数の層の一又は複数の光学特性を測定することと、一又は複数の層にエラーがあればそれを、測定された一又は複数の光学特性に基づいて特定することと、処理ツールにリアルタイムの光学応答フィードバックを提供することと、を行うよう構成され、処理ツールは、後続して堆積される層において、測定された層で検出されたエラーを補償するよう構成されている。【選択図】図１