INSPECTION DEVICE

To provide an inspection device capable of detecting a defocusing and adjusting a focusing position by a simple device with high accuracy.SOLUTION: An inspection device according to an embodiment contains: a stage onto which a sample is mounted; an image acquisition circuit; an estimation circuit; a stage control circuit; and a comparison circuit. The image acquisition circuit acquires a plurality of inspection images based on a secondary electron generated by a plurality of electron beams irradiated toward a first region containing a plurality of sub-regions of a sample. The estimation circuit estimates a rotational amount of an array of the plurality of electron beams irradiated to the first region on the basis of a deviation amount of each position of a plurality of referring images indicating a pattern indicated in each of the plurality of sub-regions and the plurality of inspection images. The stage control circuit controls a focusing position of the plurality of electron beams irradiated to a second region of the sample on the basis of the rotational amount. The comparison circuit compares the plurality of referring images with the plurality of inspection images.SELECTED DRAWING: Figure 6 【課題】 簡易な装置で高精度にデフォーカスの検出及びフォーカス位置の調整を行える検査装置を提供する。【解決手段】 一実施形態による検査装置は、試料が載置されるステージと、画像取得回路と、推定回路と、ステージ制御回路と、比較回路と、を含む。画像取得回路は、試料の複数のサブ領域を含んだ第１領域に向けて照射された複数の電子ビームによって発生する二次電子に基づく複数の検査画像を取得する。推定回路は、複数のサブ領域にそれぞれ形成されるパターンを示す複数の参照画像と、複数の検査画像と、の位置のずれの量に基づいて第１領域に照射された複数の電子ビームのアレイの回転の量を推定する。ステージ制御回路は、回転の量に基づいて、試料の第２領域に照射される複数の電子ビームのフォーカス位置を制御する。比較回路は、複数の参照画像と複数の検査画像を比較する。【選択図】 図６