ARCH EVAPORATION SOURCE

To provide an arc evaporation source capable of restraining generation of macro particles flying toward a workpiece by promoting movement of an arc spot on a target discharge surface.SOLUTION: An arc evaporation source 6 comprises a target 7 including a target discharge face 7S, an arc power source PS, an electromagnetic coil 8 arranged in front of the target 7, and a central magnet 20 arranged after the target 7. The electromagnetic coil 8 forms a first magnetic filed M1 including a first magnetic flux Q1 extending to cross with the target discharge face 7S and pass through radial inside of the electromagnetic coil 8 in a longitudinal direction. The central magnet 20 forms a second magnetic field M2 including a second magnetic flux Q2 extending in a region between the central magnet 20 and the target discharge face 7S in the longitudinal direction. A horizontal magnetic field and a vertical magnetic field are stably formed on the target discharge face 7S by repulsion of the first magnetic field M1 and the second magnetic filed M2.SELECTED DRAWING: Figure 5 【課題】ターゲット放電面におけるアークスポットの移動を促進することで、ワークに向かって飛翔するマクロパーティクルの発生を抑制することが可能なアーク蒸発源を提供する。【解決手段】アーク蒸発源６は、ターゲット放電面７Ｓを含むターゲット７と、アーク電源ＰＳと、ターゲット７の前方に配置される電磁コイル８と、ターゲット７の後方に配置される中央磁石２０とを備える。電磁コイル８は、ターゲット放電面７Ｓと交差しかつ当該電磁コイル８の径方向内側を前後方向に通過するように延びる第１磁力線Ｑ１を含む第１磁場Ｍ１を形成する。中央磁石２０は、当該中央磁石２０とターゲット放電面７Ｓとの間の領域において前後方向に延びる第２磁力線Ｑ２を含む第２磁場Ｍ２を形成する。第１磁場Ｍ１と第２磁場Ｍ２との反発によって、ターゲット放電面７Ｓ上に水平磁場と垂直磁場とが安定して形成される。【選択図】図５