TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
To provide a transparent conductive film that offers superior flexibility while enabling reduction in the surface resistance of a transparent conductive layer and suppression of curling, and a method for producing such a transparent conductive film.SOLUTION: A transparent conductive film 1 includes...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To provide a transparent conductive film that offers superior flexibility while enabling reduction in the surface resistance of a transparent conductive layer and suppression of curling, and a method for producing such a transparent conductive film.SOLUTION: A transparent conductive film 1 includes a glass substrate 2, and a transparent conductive layer 3 in this order. The glass substrate 2 has a thickness of 150 μm or less. The transparent conductive layer 3 is crystalline. The transparent conductive layer 3 has a surface resistivity of 3 Ω/sq. or less. The transparent conductive layer 3 has a residual stress that is -150 MPa or more to -15 MPa or less, or 15 MPa or more to 250 MPa or less.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】可撓性に優れつつ、透明導電層の表面抵抗を低くでき、かつ、カールを抑制することができる透明導電性フィルム、および、その透明導電性フィルムを製造する透明導電性フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】透明導電性フィルム1は、ガラス基材2と、透明導電層3とを順に備える。ガラス基材2の厚みは、150μm以下である。透明導電層3は結晶性である。透明導電層3の表面抵抗値は、3Ω/□以下である。透明導電層3の残留応力は、-150MPa以上-15MPa以下、または、15MPa以上250MPa以下である。【選択図】図1 |
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