RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND, AND ACID DIFFUSION CONTROL AGENT

To provide a resist composition having high sensitivity and good lithographic characteristics, a resist pattern forming method using the resist composition, an acid diffusion control agent usable for producing the resist composition, and a compound useful as the acid diffusion control agent.SOLUTION: The resist composition, which generates an acid upon exposure and whose solubility in a developer changes by the action of an acid, contains: a resin component (A1) whose solubility in a developer changes by the action of an acid; and a compound (D0) represented by the following general formula (d0). In the formula, Rd01 represents a monovalent organic group; Rd02 represents a monovalent organic group or a hydrogen atom; and Ld01 represents a single bond or a divalent linking group; provided that at least one of Rd01 and Rd02 has at least one iodine atom as a substituent.SELECTED DRAWING: None 【課題】高感度、且つリソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、当該レジスト組成物の製造に利用可能な酸拡散制御剤、及び当該酸拡散制御剤として有用な化合物の提供。【解決手段】露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ１）と、下記一般式（ｄ０）で表される化合物（Ｄ０）と、を含有する、レジスト組成物。式中、Ｒｄ０１は１価の有機基を表し；Ｒｄ０２は１価の有機基又は水素原子を表し；Ｌｄ０１は単結合又は２価の連結基を表す。ただし、Ｒｄ０１及びＲｄ０２の少なくとも一つは、置換基として少なくとも一つのヨウ素原子を有する。［化１］TIFF2024065692000123.tif16170【選択図】なし