EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

To provide an exposure method which is advantageous for optimizing panel layout.SOLUTION: An exposure method includes a first layer exposure step of exposing a pattern of an original plate onto a first layer on a substrate while scanning a relative position between the original plate and the substrate in a scanning direction, and a second layer exposure step of exposing the pattern of the original plate onto a second layer on the first layer while scanning the relative position in the scanning direction, wherein the first layer exposure step includes a first step of transferring a first effective region including a pattern formation region in the original plate, a light-shielding region provided at a position separated in the scanning direction from the pattern formation region and an alignment mark onto a first shot region in the substrate, and a second step of transferring a second effective region including a part of the pattern formation region and a part of the alignment mark onto a second shot region in the substrate so as to overlap a region corresponding to the light-shielding region in the first shot region.SELECTED DRAWING: Figure 9 【課題】 パネルレイアウトを最適化するうえで有利な露光方法を提供すること。【解決手段】 原版と基板との相対位置を走査方向に走査させながら前記原版のパターンを前記基板上の第１層に露光する第１層露光工程と、前記相対位置を前記走査方向に走査させながら前記原版のパターンを前記第１層上の第２層に露光する第２層露光工程を含む露光方法であって、前記第１層露光工程は、前記原版におけるパターン形成領域と、前記パターン形成領域に対して前記走査方向に離間した位置に設けられた遮光領域と、アライメントマークと、を含む第１有効領域を前記基板における第１ショット領域に転写する第１工程と、前記パターン形成領域の一部と、前記アライメントマークの一部と、を含む第２有効領域を、前記第１ショット領域における前記遮光領域に対応する領域に重複するように、前記基板における第２ショット領域に転写する第２工程と、を含む。【選択図】 図９