SEMICONDUCTOR DEVICE AND SWITCHING CIRCUIT

To provide a semiconductor device capable of suppressing excessive voltage breakdown.SOLUTION: A switching transistor M1 is a Gallium Nitride High Electron Mobility Transistor (GaN-HEMT) formed on a GaN chip. A resistor R1, which is an impedance component, is connected between a first gate terminal...

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Hauptverfasser: CHIKAMATSU KENTARO, SHINOZAKI YUICHI, KURAMOTO RYUSEI
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a semiconductor device capable of suppressing excessive voltage breakdown.SOLUTION: A switching transistor M1 is a Gallium Nitride High Electron Mobility Transistor (GaN-HEMT) formed on a GaN chip. A resistor R1, which is an impedance component, is connected between a first gate terminal G1 and a gate of the switching transistor M1. A first rectifying element D1 is connected in parallel to the resistor R1 between the first gate terminal G1 and the gate of the switching transistor M1, in a direction that an anode is on a side of the gate of the switching transistor M1. A second rectifying element D2 is connected in parallel to the resistor R1 between the first gate terminal G1 and the gate of the switching transistor M1, in a direction that a cathode is on a side of the gate of the switching transistor M1.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】耐圧オーバーを抑制可能な半導体装置を提供する。【解決手段】スイッチングトランジスタM1は、GaNチップに形成されるGaN-HEMT(HighElectronMobilityTransistor)である。インピーダンス素子である抵抗R1は、第1ゲート端子G1とスイッチングトランジスタM1のゲートの間に接続される。第1整流素子D1は、第1ゲート端子G1とスイッチングトランジスタM1のゲートの間に抵抗R1と並列に、アノードがスイッチングトランジスタM1のゲート側となる向きで接続される。第2整流素子D2は、第1ゲート端子G1とスイッチングトランジスタM1のゲートの間に抵抗R1と並列に、カソードがスイッチングトランジスタM1のゲート側となる向きで接続される。【選択図】図1