SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

To provide a substrate processing apparatus capable of stably performing substrate processing while avoiding an adverse effect caused by leakage of processing liquid.SOLUTION: In a substrate processing apparatus, a chamber is configured to cover an internal space with a bottom wall, a side wall erected from the periphery of the bottom wall, and a ceiling wall covering the upper end portion of the side wall. A plurality of base support members are erected vertically upward from the bottom wall, and a base member is supported by the upper end portions of these base support members. In this way, a so-called raised floor structure is formed within the interior space of the chamber. A substrate processing unit is installed on the upper surface of the base member. By adopting such a raised floor structure layout, even if processing liquid leaks and accumulates on the bottom wall of the chamber, it is possible to reliably prevent the processing liquid from coming into contact with the substrate processing unit.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】処理液の漏液による悪影響を回避して基板処理を安定して行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】この発明に係る基板処理装置では、チャンバは、底壁と、底壁の周囲から立設される側壁と、側壁の上端部を覆う天井壁とで内部空間を覆うように、構成されている。この底壁から鉛直上方に複数のベース支持部材が立設されるとともに、これらのベース支持部材の上端部によりベース部材が支持される。こうして、チャンバの内部空間内において、いわゆる高床構造が形成されている。そして、当該ベース部材の上面上に基板処理部が設置される。このような高床構造のレイアウトを採用することで、仮に処理液の漏液が発生してチャンバの底壁に貯まったとしても、その処理液が基板処理部に接液するのを確実に防止することができる。【選択図】図２