RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD

To provide a resist composition which achieves higher sensitivity and can form a resist pattern good in resolution and roughness characteristics.SOLUTION: The resist composition contains: a resin component (A1) having a constituent unit (a01) derived from a compound represented by general formula (a0-1) and a constituent unit (a02) containing a lactone-containing cyclic group or the like; and a compound (B01) represented by general formula (b0-1). In the formula, W01 represents a polymerizable group-containing group; Ya01 represents a single bond or a divalent linking group; Ra01 represents an acid-dissociable group; q represents an integer of 0-3 and n represents an integer of 1 or more, provided that n≤q×2+4; Rb1 represents an aryl group having a fluorine atom, or the like; Rb2 and Rb3 each independently represent an optionally substituted aryl group or the like; and X01- represents a counter anion.SELECTED DRAWING: None 【課題】高感度化が図れ、解像性及びラフネス特性が良好なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。【解決手段】一般式（ａ０－１）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０１）、及び、ラクトン含有環式基等を含む構成単位（ａ０２）とを有する樹脂成分（Ａ１）と、一般式（ｂ０－１）で表される化合物（Ｂ０１）とを含有するレジスト組成物。式中、Ｗ０１は、重合性基含有基である。Ｙａ０１は、単結合又は２価の連結基である。Ｒａ０１は、酸解離性基である。ｑは、０～３の整数である。ｎは、１以上の整数である。ただし、ｎ≦ｑ×２＋４である。Ｒｂ１は、フッ素原子を有するアリール基等である。Ｒｂ２及びＲｂ３は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアリール基等である。Ｘ０１－は、対アニオンである。［化１］TIFF2024024636000107.tif36170【選択図】なし