SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, SUPPLY SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND SUPPLY METHOD

To collect a high-purity rinse liquid or drying liquid.SOLUTION: A substrate processing device comprises a holding unit, a processing cup, a first supply unit, a second supply unit, a drain unit, and a first measurement unit. The holding unit holds a substrate. The processing cup is provided around the holding unit. The first supply unit supplies a chemical liquid to the substrate held by the holding unit. The second supply unit supplies a rinse liquid or a drying liquid to the substrate held by the holding unit. The drain unit is provided at a bottom of the processing cup and connected to a drain line and a collection line via a line switching unit. The first measurement unit is provided in the drain unit and measures the purity of the rinse liquid or the drying liquid.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】高純度のリンス液または乾燥液を回収する。【解決手段】本開示による基板処理装置は、保持部と、処理カップと、第１供給部と、第２供給部と、ドレイン部と、第１測定部とを備える。保持部は、基板を保持する。処理カップは、保持部の周囲に設けられる。第１供給部は、保持部に保持された基板に薬液を供給する。第２供給部は、保持部に保持された基板にリンス液または乾燥液を供給する。ドレイン部は、処理カップの底部に設けられ、ライン切替部を介して、ドレインラインおよび回収ラインに接続される。第１測定部は、ドレイン部に設けられ、リンス液または乾燥液の純度を測定する。【選択図】図２