DYNAMIC COOLING CONTROL FOR THERMAL STABILIZATION FOR LITHOGRAPHY SYSTEM

To provide a system, a software application, and methods of a lithography process that provide at least one of ability to decrease stabilization time and ability to write an exposure pattern into a photoresist on a substrate compensating for a change in a total pitch over the stabilization time.SOLUTION: One embodiment of the system includes a slab 120, a stage 130 disposed over the slab 120, a pair of support bodies 122 disposed on the slab 120, a processing apparatus, and a chiller system. The pair of support bodies supports a pair of tracks and the stage 130 is configured to move along the pair of tracks. The processing apparatus 160 has an apparatus support body coupled to the slab 120 and a processing unit 164 supported by the apparatus support body. The processing unit 164 has a plurality of image projection systems 167. The chiller system has at least one fluid channel disposed in each track of the pair of tracks.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】安定化時間を短縮する能力、及び安定化時間にわたる全ピッチの変化を補償する露光パターンを基板上のフォトレジストに書き込む能力のうちの少なくとも１つを提供する、リソグラフィプロセスのシステム、ソフトウェアアプリケーション、及び方法を提供する。【解決手段】スラブ１２０と、スラブ１２０上方に配置されたステージ１３０と、スラブ１２０上に配置された一対の支持体１２２と、処理装置と、冷却器システムとを含む。一対の支持体は一対の軌道を支持し、ステージ１３０は一対の軌道に沿って移動するように構成される。処理装置１６０は、スラブ１２０に連結された装置支持体と、装置支持体によって支持された処理ユニット１６４とを有する。処理ユニット１６４は、複数の画像投影システム１６７を有する。冷却器システムは、一対の軌道の各軌道に配置された少なくとも１つの流体チャネルを有する。【選択図】図１