PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERNED CURED PRODUCT, PATTERNED CURED PRODUCT, AND BLACK MATRIX

To provide a photosensitive composition capable of forming a patterned cured product excellent in water resistance and adhesion to a substrate, a method for producing a patterned cured product using the photosensitive composition, a patterned cured product comprising a cured product of the photosensitive composition, and a black matrix comprising a cured product of the photosensitive composition.SOLUTION: The photosensitive composition is used which contains an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable monomer (B), a photopolymerization initiator (C), a light-shielding agent (D), and a silane coupling agent (E). The light-shielding agent (D) contains carbon black (D1) coated with an epoxy resin. The photopolymerizable monomer (B) contains a high hydroxyl value monomer (B1) having a hydroxyl value of 180 mg KOH/g or more and a low hydroxyl value monomer (B2) having a hydroxyl value of less than 180 mg KOH/g. The content of the high hydroxyl value monomer (B1) is 5 mass% or more and 60 mass% or less based on the mass of the photopolymerizable monomer (B).SELECTED DRAWING: None 【課題】耐水性に優れ、且つ、基板への密着性に優れるパターン化された硬化物を形成できる感光性組成物と、当該感光性組成物を用いるパターン化された硬化物の製造方法と、前述の感光性組成物の硬化物からなるパターン化された硬化物と、前述の感光性組成物の硬化物からなるブラックマトリクスとを提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と光重合性モノマー（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）と遮光剤（Ｄ）とシランカップリング剤（Ｅ）とを含み、遮光剤（Ｄ）はエポキシ樹脂で被覆処理されたカーボンブラック（Ｄ１）を含み、光重合性モノマー（Ｂ）は水酸基価が１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である高水酸基価モノマー（Ｂ１）と水酸基価が１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満である低水酸基価モノマー（Ｂ２）とを含み、高水酸基価モノマー（Ｂ１）の含有量は光重合性モノマー（Ｂ）の質量に対して５質量％以上６０質量％以下である、感光性組成物を用いる。【選択図】なし