SYSTEM AND METHOD FOR FAULT DETECTION AND OPERATIONAL READINESS FOR OPTICAL INSTRUMENTS FOR SEMICONDUCTOR PROCESSES

To provide a system and method for fault detection and operational readiness for optical instruments for semiconductor processes.SOLUTION: The disclosure recognizes that it is better to not start monitoring a controllable process than to monitor the process with an optical instrument, such as a proc...

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Hauptverfasser: KUENY ANDREW W, MIKE WHELAN
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a system and method for fault detection and operational readiness for optical instruments for semiconductor processes.SOLUTION: The disclosure recognizes that it is better to not start monitoring a controllable process than to monitor the process with an optical instrument, such as a process controlling instrument/sensor, when the optical instrument is not operating properly. In one aspect, the disclosure provides a system for evaluation and verification of an operational state of an optical instrument. In one example, the system includes (1) an integrated light source, (2) an optical sensor for collecting light from the integrated light source, (3) a controller controlling the integrated light source and the optical sensor, and (4) a processor for processing collected optical signal data obtained from the light and deriving a metric indicative of the operational state.SELECTED DRAWING: Figure 7 【課題】半導体プロセスのための光学機器の障害検出及び動作即応性のためのシステム及び方法を提供する。【解決手段】本開示は、光学機器、たとえば、プロセス制御機器/センサ、で、その光学機器が適切に動作していないときに、プロセスをモニタすることよりも制御可能なプロセスのモニタリングを開始しないことの方が良いと認識する。1つの態様において、本開示は、光学機器の動作状態の評価及び検証のためのシステムを提供する。1つの実例において、システムは、(1)積分光源と、(2)積分光源から光を集めるための光学センサと、(3)積分光源及び光学センサを制御するコントローラと、(4)光から取得された収集された光信号データを処理する及び動作状態を示すメトリックを導出するためのプロセッサとを含む。【選択図】図7