SHIELD GAS SUPPLY DEVICE AND METHOD

To improve shield performance by suppressing entrainment of surrounding air into a shield gas on a shield gas supply device and a method.SOLUTION: A shield gas supply device includes: a first nozzle for jetting a first shield gas at a preset first speed along a shield surface; and a second nozzle di...

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Hauptverfasser: KOMATSU YOSHINAO, TANIGAWA HIDETSUGU
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To improve shield performance by suppressing entrainment of surrounding air into a shield gas on a shield gas supply device and a method.SOLUTION: A shield gas supply device includes: a first nozzle for jetting a first shield gas at a preset first speed along a shield surface; and a second nozzle disposed on an outside the first nozzle and jetting a second shield gas at a second speed which is slower than the first speed along the first shield gas.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】シールドガス供給装置および方法において、シールドガスへの周囲の空気の巻き込みを抑制することでシールド性能の向上を図る。【解決手段】シールド面に沿って予め設定された第1速度で第1シールドガスを噴出する第1ノズルと、第1ノズルの外側に配置されて第1シールドガスに沿って第1速度より低速の第2速度で第2シールドガスを噴出する第2ノズルと、を備える。【選択図】図1