METHODS AND SYSTEMS OF ELECTROCHEMICAL MACHINING

To provide methods and systems of electrochemical machining.SOLUTION: The method may include applying a first potential to a tool electrode of an electrochemical machining system to generate a primary electric field. The electrochemical machining system may include a workpiece opposite to the tool e...

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Hauptverfasser: TRIMMER ANDREW LEE, JOHN MALOTT COTTRILL
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide methods and systems of electrochemical machining.SOLUTION: The method may include applying a first potential to a tool electrode of an electrochemical machining system to generate a primary electric field. The electrochemical machining system may include a workpiece opposite to the tool electrode, at least one bias electrode, and at least one fluid delivery channel within the at least one bias electrode. The method may further include applying at least one second potential to the at least one bias electrode. The method may further include delivering a charged electrolyte solution through the at least one fluid delivery channel into the electrolyte solution. Applying at least one second potential and delivering the charged electrolyte solution generate at least one secondary electric field adjacent to the primary electric field and quenches at least one location of the primary electric field.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】電解加工の方法およびシステムを提供すること。【解決手段】本方法は、一次電場を生成するために電解加工システムのツール電極に第1の電位を印加するステップを含み得る。電解加工システムは、ツール電極の反対側にあるワークピースと、少なくとも1つのバイアス電極と、少なくとも1つのバイアス電極内の少なくとも1つの流体送達チャネルとを含んでもよい。本方法は、少なくとも1つの第2の電位を少なくとも1つのバイアス電極に印加するステップをさらに含んでいてもよい。本方法は、少なくとも1つの流体送達チャネルを通して電解質溶液中に帯電した電解質溶液を送達するステップをさらに含んでいてもよい。少なくとも1つの第2の電位を印加し、帯電した電解質溶液を送達することにより、一次電場に隣接する少なくとも1つの二次電場を生成し、一次電場の少なくとも1つの場所を電位抑制する。【選択図】図1