SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

To suppress contact of a substrate held by a mounting unit with water.SOLUTION: A mounting unit 40 of a substrate processing apparatus holds: an unprocessed substrate that is transferred from an indexer robot to a center robot; and a processed substrate transferred from the center robot to the indexer robot. The mounting unit 40 comprises: a housing 411; a first opening/closing portion 413; and a second opening/closing portion 414. The housing 411 can house a plurality of substrates 9 into an internal space 400 to which a low-moisture gas having moisture lower than that of atmosphere is supplied. The first opening/closing portion 413 opens and closes a portion on a processing block side of the housing 411. The second opening/closing portion 414 is driven independently from the first opening/closing portion 413, and opens and closes a portion on an indexer block side of the housing 411. Thus, contact of the substrate held by the mounting unit 40 with water can be suppressed.SELECTED DRAWING: Figure 11 【課題】載置ユニットに保持されている基板への水分の接触を抑制する。【解決手段】基板処理装置の載置ユニット４０は、インデクサロボットからセンターロボットへと渡される未処理の基板、および、センターロボットからインデクサロボットへと渡される処理済みの基板を保持する。載置ユニット４０は、筐体４１１と、第１開閉部４１３と、第２開閉部４１４とを備える。筐体４１１は、大気よりも湿度が低い低湿度ガスが供給される内部空間４００に複数の基板９を収容可能である。第１開閉部４１３は、筐体４１１の処理ブロック側の部位を開閉する。第２開閉部４１４は、第１開閉部４１３とは独立して駆動され、筐体４１１のインデクサブロック側の部位を開閉する。これにより、載置ユニット４０に保持されている基板に対する水分の接触を抑制することができる。【選択図】図１１