EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

To provide a lithography device advantageous in a production cost and a through-put with regard to correction processing for a placement error of a plurality of substrates.SOLUTION: An exposure device includes: a holding part configured to hold a plurality of substrates arranged on one holding face; a measurement part configured to measure an amount of positional deviation against a reference position with regard to each of the plurality of substrates held by the holding part; a drive mechanism configured to rotate and drive the holding part around an axis intersecting the holding face; and a control part configured to control an exposure of each of the plurality of substrates held by the holding part. The control part determines a drive amount of the drive mechanism according to the amount of positional deviation of each of the plurality of substrates obtained by the measurement, drives the drive mechanism according to the determined drive amount and then sequentially exposes each of the plurality of substrates.SELECTED DRAWING: Figure 8 【課題】複数の基板の置き誤差の補正処理に関して製造コストおよびスループットの点で有利なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】露光装置は、１つの保持面の上に配置された複数の基板を保持する保持部と、前記保持部によって保持された前記複数の基板のそれぞれに関して、基準位置に対する位置ずれ量の計測を行う計測部と、前記保持面と交差する軸まわりに前記保持部を回転駆動する駆動機構と、前記保持部によって保持された前記複数の基板のそれぞれの露光を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記計測により得られた前記複数の基板のそれぞれの位置ずれ量に基づいて、前記駆動機構の駆動量を決定し、前記決定された駆動量で前記駆動機構を駆動し、その後、前記複数の基板のそれぞれを順次に露光する。【選択図】 図８