BROAD ION BEAM (BIB) SYSTEM FOR MORE EFFICIENT PROCESSING OF MULTIPLE SAMPLES
To disclose a system and a method for operating a broad ion beam (BIB) polisher in a sample preparation workflow having improved uptime.SOLUTION: An exemplary method for operating a broad ion beam (BIB) polisher having improved uptime according to the present invention comprises: causing a first BIB...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To disclose a system and a method for operating a broad ion beam (BIB) polisher in a sample preparation workflow having improved uptime.SOLUTION: An exemplary method for operating a broad ion beam (BIB) polisher having improved uptime according to the present invention comprises: causing a first BIB source to emit a first broad ion beam toward a sample disposed within an internal volume of the BIB polisher while the first BIB source is emitting the first broad ion beam toward the sample; and removing, from the BIB polisher, a second BIB source configured to emit, in use, a second broad ion beam toward the sample.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】 改善された稼働時間を有する試料準備ワークフローにおいてブロードイオンビーム(BIB)研磨機を動作させるためのシステム及び方法が開示される。【解決手段】 本発明による改善された稼働時間を有するブロードイオンビーム(BIB)研磨機を動作させるための例示的な方法は、第1のBIBソースが試料に向かって第1のブロードイオンビームを放出している間に、第1のBIBソースに、BIB研磨機の内部容積内に配置された試料に向かって第1のブロードイオンビームを放出させることと、使用時に、試料に向かって第2のブロードイオンビームを放出するように構成された第2のBIBソースをBIB研磨機から除去することと、を含む。【選択図】 図1 |
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