SEMICONDUCTOR DEVICE

To provide a semiconductor device capable of reducing power consumption.SOLUTION: A semiconductor device according to an embodiment includes: a first electrode, an n-type first semiconductor region, a p-type second semiconductor region, an n-type third semiconductor region, a gate electrode, and a s...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KACHI TAKESHI, KIKUCHI KENJI, BABA SHOTARO
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a semiconductor device capable of reducing power consumption.SOLUTION: A semiconductor device according to an embodiment includes: a first electrode, an n-type first semiconductor region, a p-type second semiconductor region, an n-type third semiconductor region, a gate electrode, and a second electrode. The first semiconductor region is provided on the first electrode. The second semiconductor region is provided on the first semiconductor region and includes a first contact region. The third semiconductor region is provided on a portion of the second semiconductor region. The third semiconductor region includes a second contact region. A concentration of a first element in the second contact region is less than a concentration of the first element in the first contact region. The first element is at least one selected from the group consisting of platinum group elements and gold. The gate electrode faces the second semiconductor region via a gate insulating layer. The second electrode is provided on the second and third semiconductor regions and is in contact with the first and second contact regions.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】消費電力を低減可能な半導体装置を提供する。【解決手段】実施形態に係る半導体装置は、第1電極と、n形の第1半導体領域と、p形の第2半導体領域と、n形の第3半導体領域と、ゲート電極と、第2電極と、を備える。第1半導体領域は、第1電極の上に設けられている。第2半導体領域は、第1半導体領域の上に設けられ、第1コンタクト領域を含む。第3半導体領域は、第2半導体領域の一部の上に設けられている。第3半導体領域は、第2コンタクト領域を含む。第2コンタクト領域における第1元素の濃度は、第1コンタクト領域における第1元素の濃度よりも低い。第1元素は、金及び白金属元素からなる群より選択された少なくとも1つである。ゲート電極は、ゲート絶縁層を介して第2半導体領域と対面する。第2電極は、第2半導体領域及び第3半導体領域の上に設けられ、第1コンタクト領域及び第2コンタクト領域と接する。【選択図】図1