FILM WITH CONDUCTIVE LAYER FOR PHASE DIFFERENCE OBSERVATION

To provide a film with a conductive layer for phase difference observation that is suitable for achieving both anti-blocking capability and noise suppression.SOLUTION: A film X with a conductive layer according to the present invention is a film with a conductive layer for phase difference observati...

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Hauptverfasser: TAKESHITA SHOYA, TAKEYASU TOMOHIRO
Format: Patent
Sprache:eng ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:To provide a film with a conductive layer for phase difference observation that is suitable for achieving both anti-blocking capability and noise suppression.SOLUTION: A film X with a conductive layer according to the present invention is a film with a conductive layer for phase difference observation comprising a curable resin layer 11, a base material film 10, a curable resin layer 12, and a conductive layer 13 that are disposed in a thickness direction H in this order. The curable resin layer 11 contains anti-blocking particles. A protrusion height of a surface 11a of the curable resin layer 11 on a side opposite to the base material film 10 is 10 nm or more and 400 nm or less. A protrusion height of a surface 12a of the curable resin layer 12 on a side opposite to the conductive layer 13 is 10 nm or less. A hardness at 25°C of the surface 12a of the curable resin layer 12 measured by a nano-indentation method is 0.44 GPa or more.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】アンチブロッキング性とノイズ抑制とを両立するのに適した位相差観察用導電層付フィルムを提供する。【解決手段】本発明の導電層付フィルムXは、硬化樹脂層11と、基材フィルム10と、硬化樹脂層12と、導電層13とを厚さ方向Hにこの順で備える位相差観察用導電層付フィルムである。硬化樹脂層11は、アンチブロッキング粒子を含有する。硬化樹脂層11における基材フィルム10とは反対側の表面11aの突部高さは、10nm以上400nm以下である。硬化樹脂層12における導電層13側の表面12aの突部高さは、10nm以下である。硬化樹脂層12の表面12aの、ナノインデンテーション法により測定される25℃での硬度は、0.44GPa以上である。【選択図】図1