OPTICAL THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

To provide an optical thin film that is excellent in hydrophilicity and has photocatalytic function.SOLUTION: A method for manufacturing an optical thin film repeats a step of depositing a film with a vacuum deposition method using a silicon oxide as a vapor deposition material and a step of depositing a film with a sputtering method using titanium or a titanium oxide as a target constitution material to deposit an optical thin film having a 10° or less contact angle with respect to water and a photocatalytic function of decomposing a CH group. The acquired optical thin film comprises a mixed film of the silicon oxide and the titanium oxide, where an atomic number rate of the titanium oxide is 3-24% in which atomic number is measured using an X-ray photoelectron spectroscopy; and the balance silicon oxide.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】親水性に優れ、且つ光触媒機能を有する光学薄膜を提供する。【解決手段】蒸着材料に酸化ケイ素を用いて真空蒸着法により成膜する工程と、ターゲット構成物質にチタン又は酸化チタンを用いてスパッタリング法により成膜する工程とを繰り返し、水に対する接触角が１０°以下であり、ＣＨ基を分解する光触媒機能を有する光学薄膜を成膜する。得られる光学薄膜は、酸化ケイ素と酸化チタンの混合膜からなり、Ｘ線光電子分光法を用いた原子数測定による前記酸化チタンの原子数割合が３％～２４％、残余が前記酸化ケイ素である。【選択図】 図１