PLASMA INDICATOR USED IN ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING DEVICE
To provide an indicator capable of detecting whether plasma processing is uniformly performed on the entire substrate at the plasma intensity in an actual mass production process even when the substrate used in an electronic device manufacturing device is used as the indicator substrate in the elect...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To provide an indicator capable of detecting whether plasma processing is uniformly performed on the entire substrate at the plasma intensity in an actual mass production process even when the substrate used in an electronic device manufacturing device is used as the indicator substrate in the electronic device manufacturing device.SOLUTION: A plasma indicator includes a substrate used in an electronic device manufacturing device, a colored layer 1 laminated adjacently on the substrate, and a colored layer 2 laminated adjacent to the colored layer 1. In a relationship between the hue 1 of the colored layer 1 and the hue 2 of the colored layer 2, the Munsell hue circle indicated by performing division into 20 hues, the hue 2 is any one of the 10 consecutive hues excluding the physical complementary hue from among the 11 consecutive hues centered on the physical complementary hue of the hue 1.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】電子デバイス製造装置内において、インジケータの基板として電子デバイス製造装置で使用される基板を用いる場合であっても、実際の量産工程のプラズマ強度において、プラズマ処理が基板全体に対して均一に行われているかどうかを検知することが可能なインジケータを提供する。【解決手段】プラズマインジケータは、電子デバイス製造装置に用いられ、電子デバイス製造装置で使用される基板と、基板上に隣接して積層された着色層1と、着色層1上に隣接して積層された着色層2とから構成されている。着色層1の色相1と、着色層2の色相2との関係が、色相を20分割して示されるマンセル色相環において、色相2は、色相1の物理補色の色相を中心とする連続する11色相のうち、物理補色の色相を除く10色相のいずれかである。【選択図】図1 |
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