HETERODYNING OPTICAL PHASE MEASURING DEVICE FOR DIFFRACTION BASED OVERLAY

To provide a measuring method for an overlay error in a multilayered sample allowing for matched conditions in a k-space to be achieved by adjusting a diffraction structure or structured light.SOLUTION: A method includes the steps of: generating spatially structured light from a light source 520 by projecting light emitted by a light source 520 through an optical modulator 535; transmitting the spatially structured light onto a multilayered periodic sample 501 from the optical modulator; detecting diffracted spatially structured light from the multilayered sample 501 at one or more of a plurality of sensors 560, 570 communicatively connected to a computing system; and estimating an overlay error of the multilayered periodic sample 501 based on signals received at the diffracted spatially structured light computing system detected at the one or more of the plurality of sensors 560, 570.SELECTED DRAWING: Figure 5 【課題】回折構造または構造化光を調整することにより、ｋ空間におけるマッチング条件が達成されることを可能にする多層サンプルにおけるオーバーレイ誤差の測定方法を提供する。【解決手段】光源５２０から出射された光を光変調器５３５を通して投射することにより、光源から空間的な構造化光を生成する工程と、空間的な構造化光を光変調器から多層周期サンプル５０１上に送信する工程と、多層周期サンプル５０１からの回折された空間的な構造化光を、コンピューティングシステムに通信可能に結合された複数のセンサ５６０、５７０のうちの１つ以上において検出する工程と、複数のセンサ５６０、５７０のうちの１つ以上において検出された回折された空間的な構造光のコンピューティングシステムで受信した信号に基づいて、多層周期サンプル５０１のオーバーレイ誤差を推定する工程と、を含むことを特徴とする方法。【選択図】図５