PHOTOCROSSLINKABLE FLUOROPOLYMER COATING COMPOSITION AND COATING LAYER FORMED THEREFROM

To provide a coating layer that has a lower dielectric constant, lower water absorption, and better adhesion to substrates and that can be photoimaged to produce electronic components and layers.SOLUTION: A coating layer comprises a layer of a photocrosslinked coating composition disposed on at least a part of a substrate. The coating composition comprises: i) a photocrosslinkable fluoropolymer having repeat units arising from monomers comprising (a) a specific fluoroolefin, (b) a specific alkyl vinyl ether, and (c) a specific alkenyl silane; ii) a photoacid generator; and iii) an optional photosensitizer. The photocrosslinkable fluoropolymer has a number average molecular weight from about 10,000 to about 350,000 daltons. The photocrosslinked coating composition has a dielectric constant from about 2.0 to about 3.0 when measured at 1 MHz.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】本発明は、より低い誘電率、より低い吸水率、基材に対するより良好な接着性、並びに電子部品及び層を製造するために光画像化することができる、コーティング層を提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、基材の少なくとも一部の上に配置された光架橋コーティング組成物の層を含む、コーティング層であって、コーティング組成物が、ｉ）光架橋性フルオロポリマーであって、（ａ）特定のフルオロオレフィン、（ｂ）特定のアルキルビニルエーテル、及び（ｃ）特定のアルケニルシラン、を含むモノマーから生じる繰り返し単位を有する、光架橋性フルオロポリマーと、ｉｉ）光酸発生剤と、ｉｉｉ）任意の光増感剤と、を含み、光架橋性フルオロポリマーが、約１万～約３５万ダルトンの数平均分子量を有し、光架橋コーティング組成物が、１ＭＨｚで測定したときに約２．０～約３．０の誘電率を有する、コーティング層である。【選択図】図２