SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

To provide a substrate processing apparatus with improved reliability in substrate processing.SOLUTION: A substrate processing apparatus 1000 includes a baking chamber 1110, a chamber door 1200, a first support plate 1120, a first separation wall that divides the space provided on the first support plate into first heat treatment space spaced apart from each other in a first horizontal direction, extends in a second horizontal direction and a vertical direction on the first support plate, in which the second horizontal direction is perpendicular to the first horizontal direction and the vertical direction is perpendicular to the first horizontal direction and the second horizontal direction, a first heat treatment module PU1, a first exhaust duct 1410, a first sealing bracket 1610, a first horizontal packing 1710, and a first vertical packing extending vertically along the edge of the first separation wall opposite the chamber door and configured to seal the gap between the first separation wall and the chamber door.SELECTED DRAWING: Figure 6 【課題】基板処理の信頼性が向上した基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置１０００は、ベークチャンバ１１１０、チャンバドア１２００、第１支持プレート１１２０、第１支持プレート上に提供された空間を第１水平方向に互いに離隔された第１熱処理空間に分離し、第１支持プレート上で第２水平方向及び垂直方向に延び、第２水平方向は、第１水平方向に垂直であり、垂直方向は、第１水平方向及び第２水平方向に垂直である、第１分離壁、第１熱処理モジュールＰＵ１、第１排気ダクト１４１０、第１密閉ブラケット１６１０、第１水平パッキング１７１０、チャンバドアに対向する第１分離壁のエッジに沿って垂直方向に延び、第１分離壁とチャンバドアとの間の間隙を密閉するように構成された第１垂直パッキングを含む。【選択図】図６