SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

To provide a method of processing a mask.SOLUTION: In a mask processing method, a liquid is supplied to a mask, the mask is processed by irradiating a region where a specific pattern is formed on the mask with a laser while the liquid remains on the mask, an optical module including a laser unit that performs irradiation with the laser moves between a process position for processing the mask and a standby position after exiting the process position, and before the optical module moves from the standby position to the process position, and an adjustment step of adjusting the state of the optical module according to a set condition may be performed at the groove port provided at the standby position.SELECTED DRAWING: Figure 12 【課題】本発明はマスクを処理する方法を提供する。【解決手段】マスクを処理する方法は、前記マスクに液を供給し、前記液が前記マスクに残留する間に前記マスク上の特定パターンが形成された領域にレーザーを照射して前記マスクを処理するが、前記レーザーを照射するレーザーユニットを含む光学モジュールは前記マスクを処理する工程位置と前記工程位置を脱した待機位置の間に移動し、前記光学モジュールが前記待機位置から前記工程位置に移動する前に、前記待機位置に具備された溝ポートで前記光学モジュールの状態を設定条件で調整する調整段階を遂行することができる。【選択図】図１２