IMPRINT METHOD, IMPRINT DEVICE, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

To provide a technique advantageous for improving the uniformity of a plurality of patterns formed on a substrate by using an imprint technique.SOLUTION: An imprint method is to cure an imprint material on a substrate while the imprint material and a mold are in contact with each other, and the method includes a curing step of irradiating the imprint material with first light by using a first light source and irradiating the imprint material with second light by using a second light source to cure the imprint material, and forming a plurality of patterns formed of the cured product of the imprint material. The intensity distribution of the second light is adjusted, with which the imprint material is irradiated by the second light source in the curing step so that the distribution of evaluation values of the plurality of patterns formed through the curing step satisfies a target distribution.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】インプリント技術を使って基板の上に形成される複数のパターンの均一性を向上させるために有利な技術を提供する。【解決手段】基板の上のインプリント材と型とが接触した状態で前記インプリント材を硬化させるインプリント方法は、第１光源を使って前記インプリント材に第１光を照射し、かつ、第２光源を使って前記インプリント材に第２光を照射することによって前記インプリント材を硬化させ、前記インプリント材の硬化物からなる複数のパターンを形成する硬化工程を含み、前記硬化工程を経て形成される前記複数のパターンのそれぞれの評価値の分布が目標分布を満たすように、前記硬化工程において前記第２光源によって前記インプリント材に照射される前記第２光の強度分布が調整される。【選択図】図１