NOZZLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

To efficiently mix a fluid and a processing liquid in liquid processing using a mixed fluid of the fluid and the processing liquid.SOLUTION: In a substrate processing apparatus, a nozzle 141 for mixing and discharging a fluid containing pressurized pure water vapor or mist and a processing liquid containing at least sulfuric acid includes a first discharge port 45, a second discharge port 47, and a lead-out path 44. The first discharge port 45 ejects the fluid. The second discharge port 47 ejects the processing liquid. The lead-out path 44 communicates with the first discharge port 45 and the second discharge port 47, and leads out the mixed fluid of the fluid ejected from the first discharge port 45 and the processing liquid ejected from the second discharge port 47. Also, the first discharge port 45 or the second discharge port 47 is arranged at a position deviated from the central axis of the lead-out path 44 in plan view.SELECTED DRAWING: Figure 3 【課題】流体と処理液との混合流体を用いる液処理において流体と処理液とを効率よく混合すること。【解決手段】基板処理装置において、加圧された純水の蒸気またはミストを含む流体と少なくとも硫酸を含む処理液とを混合して吐出するノズル１４１は、第１吐出口４５と、第２吐出口４７と、導出路４４と、を備える。第１吐出口４５は、流体を吐出する。第２吐出口４７は、処理液を吐出する。導出路４４は、第１吐出口４５及び第２吐出口４７に連通し、第１吐出口４５から吐出された流体と第２吐出口４７から吐出された処理液との混合流体を導出する。また、第１吐出口４５または第２吐出口４７は、平面視において導出路４４の中心軸からずれた位置に向けて配置される。【選択図】図３