BONDING WIRE AND SEMICONDUCTOR DEVICE
To provide a bonding wire superior in long-term reliability, which can achieve a satisfactory circular form as to FAB shape when FAB is put in contact with an electrode and crushed.SOLUTION: In a semiconductor device M, a bonding wire W comprises: 0.005 mass% or more and 2.0 mass% or less of In; one...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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Zusammenfassung: | To provide a bonding wire superior in long-term reliability, which can achieve a satisfactory circular form as to FAB shape when FAB is put in contact with an electrode and crushed.SOLUTION: In a semiconductor device M, a bonding wire W comprises: 0.005 mass% or more and 2.0 mass% or less of In; one or two elements selected from Au and Pd where the total content is 0.005 mass% or more and 2.0 mass% or less; one or more elements selected from Bi and Cu, where the total content is 5 mass ppm or more and 500 mass ppm or less; one or more elements selected from a group consisting of Ca, Mg, Ge, Y, Nd, Sm, Gd, La and Ce, where the total content is 0 mass ppm or more and 500 mass ppm or less; and the balance consisting of Ag.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】長期信頼性に優れ、FABを電極に接触させ潰した時の形状を良好な円形とすることができるボンディングワイヤを提供する。【解決手段】半導体装置Mにおいて、ボンディングワイヤWは、Inの含有量が0.005質量%以上2.0質量%以下、Au及びPdから選択された1種又は2種の元素の含有量の合計が0.005質量%以上2.0質量%以下、Bi及びCuから選択された1種又は2種以上の元素の含有量の合計が5質量ppm以上500質量ppm以下、Ca、Mg、Ge、Y、Nd、Sm、Gd、La及びCeからなる群から選択された1種又は2種以上の元素の含有量の合計が0質量ppm以上500質量ppm以下であり、残部がAgからなる。【選択図】図1 |
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