METHOD OF FORMING PHOTO-CURED LAYER

To provide a method of forming a photo-cured layer having a homogeneous material structure.SOLUTION: A method of forming a photo-cured layer on a substrate can comprise using a first photocurable composition and a second photocurable composition, wherein both photocurable compositions may contain the same types of polymerizable monomers but in different concentration ratios. The concentration ratios of the monomers in each of the two photocurable compositions can be adapted so that the uneven loss of one type of monomer from the first photocurable composition due to unwanted evaporation in a certain region of the substrate may be compensated by the second photocurable composition which contains a higher amount of the monomer. The two photocurable compositions can be further adapted to easily merge to a combined layer with a very even distribution of the polymerizable monomers. This may allow forming a photo-cured layer having an excellent homogeneous material structure throughout the layer.SELECTED DRAWING: Figure 1 【課題】均一な材料構造を有する光硬化層を形成する方法を提供する。【解決手段】基板上に光硬化層を形成する方法は、第１の光硬化性組成物及び第２の光硬化性組成物を使用することを含むことができ、両方の光硬化性組成物は、同じタイプであるが異なる濃度比の重合性モノマーを含んでもよい。２つの光硬化性組成物の各々におけるモノマーの濃度比は、基板の特定の領域における望ましくない蒸発による第１の光硬化性組成物からの１つのタイプのモノマーの不均一な損失が、より多量の前記モノマーを含む第２の光硬化性組成物によって補償され得るように適合され得る。２つの光硬化性組成物は、重合性モノマーの非常に均一な分布を有する組み合わされた層へと容易に融合するようにさらに適合させることができる。これにより、層全体にわたって優れた均一な材料構造を有する光硬化層を形成することができる。【選択図】図１