CONDUCTIVE MEMBER FOR CLEANING FOCUS RING OF PLASMA PROCESSING APPARATUS

To provide a pedestal assembly with a conductive member that reduces the amount of particulates accumulated on a focus ring.SOLUTION: A pedestal assembly 200 includes an electrostatic chuck 210 configured to support a workpiece 106. The pedestal assembly 200 includes a focus ring 220 having a top surface and a bottom surface. The focus ring 220 surrounds a periphery of the workpiece 106 when the workpiece 106 is positioned on the electrostatic chuck 210. The pedestal assembly 200 further includes a plurality of insulators (e.g., an inner insulator ring 230 and an outer insulator ring 240), and a conductive member 250 positioned between at least a portion of the bottom surface of the focus ring 220 and at least a portion of one of the insulators.SELECTED DRAWING: Figure 2 【課題】フォーカスリング上に堆積する微粒子の量を低減する導電性部材を有する台座アセンブリを提供する。【解決手段】台座アセンブリ２００は、ワークピース１０６を支持する静電チャック２１０を含む。台座アセンブリ２００は、上面と下面とを有するフォーカスリング２２０を含む。フォーカスリング２２０は、ワークピース１０６が静電チャック２１０上に位置決めされたときにワークピース１０６の周囲を囲む。台座アセンブリ２００はさらに、複数の絶縁体（例えば、内側絶縁リング２３０、外側絶縁リング２４０）と、フォーカスリング２２０の下面の少なくとも一部と、複数の絶縁体のうちの１つの少なくとも一部との間に位置決めされた導電性部材２５０と、を含む。【選択図】図２