EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

To reduce lowering of productivity.SOLUTION: An exposure device for superposing and exposing a pattern of a second layer on a substrate formed with a first layer including a first pattern region including a first pattern formed by light transmitting through a pattern formation region of an original plate and a second pattern region including a second pattern formed by light transmitting through a partial region of the pattern formation region of the original plate includes a detection part for detecting an alignment mark, and a control part for controlling positioning between the original plate and the substrate, wherein the control part controls positioning between the original plate and the substrate for forming a pattern in the second layer on the basis of a detection result of a plurality of alignment marks including the alignment mark for determining positional deviation between the first pattern region and the second pattern region.SELECTED DRAWING: Figure 6 【課題】 生産性の低下を低減すること。【解決手段】 原版のパターン形成領域を透過した光によって形成された第１パターンを含む第１パターン領域と、原版のパターン形成領域の一部の領域を透過した光によって形成された第２パターンを含む第２パターン領域と、を含む第１層が形成された基板上に第２層のパターンを重ねて露光する露光装置であって、アライメントマークを検出する検出部と、原版と基板との位置合わせを制御する制御部と、を有し、前記制御部は、第１パターン領域と第２パターン領域との位置ずれを求めるためのアライメントマークを含む複数のアライメントマークの検出結果に基づいて、第２層におけるパターン形成のために原版と基板との位置合わせを制御する。【選択図】 図６