SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
To improve reliability of a semiconductor device covering an uppermost layer wiring of a multilayer wiring layer with a passivation film.SOLUTION: A semiconductor device manufacturing method forms a semiconductor device including a first wiring WR1, a second wiring WR2, dummy wirings D1 and D2, and...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; jpn |
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